Magnetron sputterende vacuümcoatingmachine

Magnetron sputterende vacuümcoatingmachine

Een magnetron sputterend vacuümcoatingsysteem maakt gebruik van energierijke ionen om een ​​dunne laag materiaal op een substraat af te zetten. Het proces is snel en goedkoop en produceert een hoge zuivere coating. Hoge energie ionen worden vrijgegeven uit een bronmateriaal en botsen met een inert gas, zoals Argon. Deze ionen produceren een plasma en atomen van het bronmateriaal worden uitgeworpen.

Magnetron sputtering vacuümcoating machine wordt vaak gebruikt bij de productie van sieraden. De roterende en stationaire ontwerpen kunnen eenvoudig worden aangepast om aan een breed scala aan coatingvereisten te voldoen. Deze machine is geschikt voor het coaten van elk metaal- of niet-metalen substraat. Het kan ook worden gebruikt om plastic, keramische en kristalglas te coaten. De high-end functies omvatten goede uniformiteit en snelle afzettingssnelheden.

Een magnetron sputterend vacuümcoatingsysteem is een krachtig en veelzijdig hulpmiddel voor productie met een groot volume. Afhankelijk van de behoeften en toepassing kan deze techniek dunne films creëren met een breed scala aan gewenste eigenschappen. Verschillende stroomsystemen, materialen en gassen kunnen worden gebruikt om het proces te optimaliseren. Voordat het proces begint, wordt het substraat in de houder gemonteerd. De houder gaat vervolgens door een laadvergrendelingskamer om te voorkomen dat deze beweegt.

Dit vacuümcoatsysteem is een goedkope methode die hoogwaardige coatings produceert met een hoog percentage doorgangspercentage. Het is ideaal voor luchtvaart en hoogwaardige productie van elektronica. Het kan ook worden gebruikt voor legeringsplateren en samengestelde metaalfilms. Dit is een economische en effectieve manier om vele soorten materialen te coaten.

Een magnetron sputterend vacuümcoatingsysteem maakt gebruik van een sputteringsbron die profiteert van elektronenbeperking. De magneten vallen elektronen op het oppervlak van het doelwit, wat resulteert in een hogere plasmadichtheid en hogere afzettingssnelheden. In tegenstelling tot conventionele sputteringsmethoden, is deze techniek veilig en veroorzaakt het geen schade aan het coatingobject.

Het sputterende gas dat in het proces wordt gebruikt, is een belangrijke overweging. Het type te gebruiken gas hangt af van het atoomgewicht van het substraat. Lichtere materialen profiteren bijvoorbeeld van het gebruik van neon of xenon. Als de kamer zuurstof bevat, is het proces reactief.

Het sputterproces omvat het blootstellen van het doelmateriaal aan reactieve gassen. Deze gassen reageren met het doelmateriaal en creëren een moleculaire verbinding. Het materiaal wordt vervolgens afgezet als een dunne filmcoating. Wanneer een siliciumdoel bijvoorbeeld reactief wordt gesputterd met zuurstof of stikstof, produceert het siliciumoxide of siliciumnitride. Deze methode wordt vaak gebruikt om meerdere materialen tegelijkertijd te coaten.

Magnetron sputtercoatingmachine

Multi-boog- en sputteringscoatings kunnen worden afgezet in een breed scala aan kleuren. Het bereiken van kleuren kan verder worden verbeterd door reactieve gassen in de kamer te introduceren tijdens het depositieproces. De veelgebruikte reactieve gassen voor decoratieve coatings zijn stikstof, zuurstof, argon of acetyleen. De decoratieve coatings worden geproduceerd in een bepaald kleurbereik, afhankelijk van de metaal-gasverhouding in de coating en de structuur van de coating. Beide factoren kunnen worden gewijzigd door de depositieparameters te wijzigen.

Voorafgaand aan depositie worden de onderdelen gereinigd, zodat het oppervlak vrij is van stof of chemische onzuiverheden. Zodra het coatingproces is gestart, worden alle relevante procesparameters continu gecontroleerd en bestuurd door een automatisch computerbesturingssysteem.

• Substraatmateriaal: glas, metaal (koolstofstaal, roestvrij staal, messing), keramiek, plastic, sieraden.

• Structuurtype: verticale structuur, #304 roestvrij staal.

• Coatingfilm: multifunctionele metalfilm, composietfilm, transparante geleidende film, reflectie-toenemende film, elektromagnetische afschermingsfilm, decoratieve film.

• Filmkleur: multi -kleuren, pistoolzwart, titanium gouden kleur, roze gouden kleur, roestvrijstalen kleur, paarse kleur, donkerblack, donkerblauw en andere meer kleuren.

• Filmtype: Tin, CRN, ZRN, TICN, TICRN, TINC, TIALN en DLC.

• Verbruiksartikelen in productie: titanium, chroom, zirkonium, ijzer, legeringdoelstelling; Vlakke doelwit, cilindrisch doel, tweelingdoel, tegenover Target.