Hoe de niet-uniformiteit van met magnetron gesputterde films op te lossen?

Ten eerste moeten de uniformiteit en richting van het magnetische veld worden verzekerd om een ​​relatief uniform ruimtemagneetveld te vormen.

Ten tweede moet de uniformiteit van de luchtdruk zoveel mogelijk worden gewaarborgd. Bij het ontwerpen van de vacuümkamer, de installatiepositie van de vacuümpomp, de manier waarop: Verdamping Vacuüm Coating Machine Fabriek van de procesgasinname en de lay-out van de procesleiding in de kamer moet worden overwogen.

Ten derde, omdat het magnetische veld en de luchtdruk niet absoluut ideaal kunnen zijn, kan het magnetische veld worden gecompenseerd door de niet-uniformiteit van de luchtdruk om de uiteindelijke film uniform te maken.

Ten vierde is de afstand van de doelbasis ook een belangrijke factor die de uniformiteit beïnvloedt