Gemeenschappelijke methoden van PVD -technologie- Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.

Gemeenschappelijke methoden van PVD -technologie

Sputterende afzetting

Sputeren is een dunne filmafzettingstechniek geassocieerd met gasglowafvoer. Er zijn veel sputteringsmethoden, zoals sputtering van directe stroom, RF -sputteren en reactief sputteren. Magnetron sputtering, tussenliggende frequentie China PVD Coating Systems Leveranciers Sputeren, directe stroom sputteren, RF -sputtering en sputteren van ionenstraal worden veel gebruikt.

Karakteristiek: het inerte gas (zoals argon) dat nodig is voor ontlading wordt gevuld in vacuümkamer. Onder de werking van hoogspanning elektrisch veld wordt een groot aantal positieve ionen geproduceerd door ionisatie van gasmoleculen. Wanneer geladen ionen worden versneld door een sterk elektrisch veld, wordt een hoge energie -ionenstroom gevormd om het verdampingsbronmateriaal te bombarderen (doelwit genoemd). Onder ionenbombardementen zullen de atomen van het verdampingsbronmateriaal het massieve oppervlak en sputter op hoge snelheid op het substraat verlaten om dunne films af te zetten.

Deel: