Algemene kennis van sputteren van vacuümcoatingmagnetron- Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.

Algemene kennis van sputteren van vacuümcoatingmagnetron

DC Magnetron sputteren , RF magnetron sputteren, gepulseerd magnetron sputteren en medium Fre2quency magnetron sputteren

Reactief sputtering is om een bepaald deel van het reactief gas in de inerte gasatmosfeer in het sputteringsysteem te introduceren. Gewoonlijk zijn de belangrijkste reactieve gassen zuurstof en stikstof.

De DC -sputteringsmethode wordt gebruikt bij sputtering en reactieve sputtercoating waarbij het gesputterde materiaal een geleidend materiaal is, en de procesapparatuur is eenvoudig en heeft een hoge sputtersnelheid.

In een doelsysteem met één kathode heeft middelgrote frequentie AC -magnetron sputtering hetzelfde ladingsafgifte en boogpreventie -effect als sputtering van pulsmagnetron. De middelgrote frequentie AC sputteringstechnologie wordt ook toegepast op het sputteringssysteem van Twin Target (Twin2MAG). De middelgrote frequentie AC Twin -doelsputteren is het verbinden van de twee uitgangsuiteinden van de middelgrote frequentie AC -voeding met de respectieve kathoden van het gesloten magnetische veld onevenwichtige sputtering dubbele doelwit. Daarom worden afwisselend spanningen met tegengestelde fasen respectievelijk verkregen op de dubbele doelen, en een paar magnetron -sputterdoelen worden afwisselend kathoden en anodes.

De Twin Target -sputteringstechnologie verbetert de stabiliteit van de magnetronsputteringsoperatie aanzienlijk, die de accumulatie van ladingen op het vergiftigde doeloppervlak kan voorkomen, waardoor het probleem van boogontsteking op het doeloppervlak en de verdwijning van de anode kan worden veroorzaakt. Leg de basis voor massaproductie.

Magnetron sputtercoatingmachine

Multi-boog- en sputteringscoatings kunnen worden afgezet in een breed scala aan kleuren. Het bereiken van kleuren kan verder worden verbeterd door reactieve gassen in de kamer te introduceren tijdens het depositieproces. De veelgebruikte reactieve gassen voor decoratieve coatings zijn stikstof, zuurstof, argon of acetyleen. De decoratieve coatings worden geproduceerd in een bepaald kleurbereik, afhankelijk van de metaal-gasverhouding in de coating en de structuur van de coating. Beide factoren kunnen worden gewijzigd door de depositieparameters te wijzigen.

Voorafgaand aan depositie worden de onderdelen gereinigd, zodat het oppervlak vrij is van stof of chemische onzuiverheden. Zodra het coatingproces is gestart, worden alle relevante procesparameters continu gecontroleerd en bestuurd door een automatisch computerbesturingssysteem.

Deel: