Toepassing van magnetron sputteren:

Toepassing van magnetron sputteren

Magnetronsputteren is de meest efficiënte methode voor afzetting bij lage temperatuur in PVD-technologie. Tijdens magnetron sputteren worden de elektronen geabsorbeerd door de donkere veldbedekking of de speciaal bevestigde anode, en de temperatuur van het verkregen substraat is lager dan die van traditioneel sputteren. Andere temperatuurgevoelige materialen worden als ondergrond afgezet. In 1998 stelde Teel Coating Ltd. de technologie voor van het afzetten van hoogwaardige TiN- en TiCN-coatings door middel van magnetronsputteren bij lage temperatuur, en de substraattemperatuur kon worden verlaagd tot minder dan 70 °C, waardoor het mogelijke toepassingsbereik van vergelijkbare coatings werd uitgebreid. In de afgelopen jaren heeft de Loughborough University in het Verenigd Koninkrijk met succes de substraattemperatuur tijdens magnetronsputteren verlaagd van 350 tot 500 °C tot ongeveer 150 °C bij kamertemperatuur, en met succes TiN- en CrN-coatings aangebracht op kunstmatige tandvormoppervlakken en koper. van de lascontactkop verlengt de levensduur met 5 tot 10 keer. Het kan worden gezien dat het onderzoek naar depositiemethoden en -processen bij lage temperatuur zeer zinvol en veelbelovend is.3