Gemeenschappelijke vacuümterminologie12

1.magnetron sputteren: met behulp van het orthogonale elektromagnetische veld gevormd op het doeloppervlak, zijn de secundaire elektronen gebonden aan het specifieke gebied van het doeloppervlak om de ionisatie-efficiëntie te verbeteren, de ionendichtheid en energie te verhogen, waardoor een hoge sputtersnelheid wordt bereikt bij lage spanning en hoge stroom.
2. PCVD plasmachemie dampafzetting: een methode voor het vervaardigen van film op substraten bij lage temperaturen door dampchemische reacties te bevorderen door plasma dat wordt gegenereerd door ontlading.
3. HCD holle kathode ontladingsafzetting: De holle kathode zendt een groot aantal elektronenstralen uit om het coatingmateriaal in de smeltkroes te verdampen en te ioniseren. Onder de negatieve voorspanning op het substraat heeft het ion een grote energie en wordt het afgezet op het oppervlak van het substraat. China Multi-arc ion coating machine Leverancier:
4. boogontladingsafzetting: met coatingmateriaal als doelpaal en triggerapparaat, wordt boogontlading geproduceerd op het doeloppervlak. Onder invloed van een boog produceert het coatingmateriaal geen badverdamping en afzettingen op het substraat.
5. Doel: een oppervlak dat wordt gebombardeerd met deeltjes.
6. Sluiter: het schot kan vast of beweegbaar zijn, wat wordt gebruikt om de coating in tijd en/of ruimte te beperken en om een ​​bepaalde filmdikteverdeling te bereiken.33