Gebruikelijke methoden van PVD-technologie

Sputterende afzetting

Sputteren is een techniek voor het afzetten van een dunne laag die wordt geassocieerd met gasgloeiontlading. Er zijn veel sputtermethoden, zoals gelijkstroomsputteren, RF-sputteren en reactief sputteren. Magnetron sputteren, middenfrequentie China PVD-coatingsystemen leveranciers sputteren, gelijkstroom sputteren, RF sputteren en ionenbundel sputteren worden veel gebruikt.

Kenmerk: Het inerte gas (zoals argon) dat nodig is voor de afvoer wordt in een vacuümkamer gevuld. Onder invloed van een elektrisch hoogspanningsveld wordt een groot aantal positieve ionen geproduceerd door ionisatie van gasmoleculen. Wanneer geladen ionen worden versneld door een sterk elektrisch veld, wordt een ionenstroom met hoge energie gevormd om het verdampingsbronmateriaal (target genoemd) te bombarderen. Onder ionenbombardement zullen de atomen van het verdampingsbronmateriaal het vaste oppervlak verlaten en met hoge snelheid op het substraat sputteren om dunne films af te zetten.33